半導體應用
在晶體的生成及離子植入處理過程中,因其製程必須在高温潔淨無塵環境下作業,石墨成為了最合適的材質,使用高純度的石墨及極為精密的加工技術,使半導體產業發展與石墨密不可分,是半導體產業極為關鍵的材料。

單晶硅生產用石墨

離子植入用高純石墨

MOCVD 石墨承載盤

MOCVD氣旋環

MOCVD部件

石墨治具
Proerty | values | R-6340 | R-6500 | R-6510 | R-6650 |
Density | g/cm3 | 1.72 | 1.77 | 1.83 | 1.84 |
Porosity(Open) | % | 15 | 14 | 10 | 10 |
Grain Size |
μm |
15 | 10 | 10 | 7 |
Hradness Rockwell B 5/100 |
HRB |
80 | 70 | 90 | 95 |
Young's mouldus | Mpa | 11000 | 10500 | 11500 | 12500 |
Flexural Strength |
Mpa |
40 | 45 | 60 | 65 |
Compressive Strength |
Mpa |
85 | 90 | 130 | 150 |
Specific electrical resistance |
µΩm | 16 | 12 | 13 | 14 |
Thermal expension | x10-6K-1 | 3.2 | 4.2 | 4.2 | 4.1 |
Thermal conductivity |
Wm-1K-1 | 105 | 90 | 105 | 95 |
Ash Value |
ppm | 100 | 100 | 100 | 100 |